隨著(zhe)塑料製(zhì)品日溢廣泛(fàn)的應用,如日化(huà)用品和飲料包(bāo)裝容器等,外觀的需要往往(wǎng)要求塑料模具型腔的表麵達到鏡麵拋光的程度。而生(shēng)產光學鏡片、鐳射(shè)唱(chàng)片等模具(jù)對表麵粗糙度要求極高,因而(ér)對拋光性的要求也極高。
1 機械(xiè)拋光(guāng)
機械拋光(guāng)是*切削、材料表麵塑性變形去(qù)掉被拋(pāo)光後的凸部而得(dé)到平滑(huá)麵的拋光方法,一般使用(yòng)油石條、羊毛輪、砂紙等,以手(shǒu)工(gōng)操作為主,特(tè)殊零件如回轉體表麵(miàn),可使用轉台等輔助工(gōng)具,表麵(miàn)質(zhì)量 要求高的可采用超精研拋的方法。
超精研拋是(shì)采用(yòng)特製的磨具(jù),在含有磨料的研拋液中(zhōng),緊壓在工件被加工表麵上,作高速旋(xuán)轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵(miàn)粗糙度,是各種拋光方法中最(zuì)高的(de)。光學鏡片模具常采用這種(zhǒng)方法。
2 化學拋光
化學拋光(guāng)是讓材料在化學介(jiè)質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解,從而得(dé)到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複雜設備,可(kě)以拋光形狀複雜的工(gōng)件(jiàn),可以同(tóng)時拋光很多工件,效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製(zhì)。化學拋光得到的表麵粗糙度一般為數10μm。
3 電解(jiě)拋光
電解拋光基本原理與化學拋(pāo)光相同,即*選擇性的溶解材料表麵微(wēi)小凸出部分,使表(biǎo)麵光滑。與化學拋光相比,可以消(xiāo)除陰極反應的影響,效果(guǒ)較好。電化學拋(pāo)光過程分為(wéi)兩步:
(1)宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散,材料表麵幾何粗糙下降(jiàng),Ra>1μm。
(2)微光平整 陽極極化,表麵光亮度提高(gāo),Ra<1μm。
4 超聲波拋光
將工件放(fàng)入磨料(liào)懸浮液中並一(yī)起置於超聲波場中,依*超聲(shēng)波的振蕩作用,使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加(jiā)工宏觀力小,不會引(yǐn)起工件變形,但工裝製作和安裝較困難。超聲波加工(gōng)可以與化學或電化學方(fāng)法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上,再(zài)施加超聲波振動攪拌溶液,使工件表麵溶解產物脫離,表麵附近的腐蝕或電解質均勻;超聲波在液體中的空化作用還能(néng)夠抑製腐蝕過程,利於表麵(miàn)光亮化
5 流體拋光
流體拋光是依*高速流動的液體及其攜帶(dài)的磨粒衝刷工件表麵達(dá)到拋光的目的。常用(yòng)方法有:磨料噴射加工(gōng)、液體(tǐ)噴射加(jiā)工、流體動力(lì)研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往複流過工件表麵。介質主要采用在較低壓力(lì)下(xià)流過性好(hǎo)的特殊化合物(聚合物狀物質)並摻上磨料製(zhì)成,磨料可采用碳(tàn)化(huà)矽粉末。
6 磁研磨拋光
磁(cí)研(yán)磨拋光(guāng)是利用磁(cí)性磨(mó)料在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨(mó)削加工(gōng)。這種方法加工(gōng)效率高,質量好,加工(gōng)條件容易控製,工作條件好。采用合適的磨料,表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。
在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的(de)表麵拋光有很大的不同,嚴格來說,模具的拋光應該(gāi)稱為鏡麵加工。它不僅對拋光本(běn)身有很高的要(yào)求並且對表麵平整度、光滑(huá)度(dù)以及幾何精確度也有很高的標準。表麵(miàn)拋光一般隻要(yào)求獲得光亮的表麵即可。

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